紫外臭氧清洗機都有哪些應(yīng)用范圍呢？
紫外臭氧清洗機是不需要任何溶劑的干式清洗技術(shù)，對清洗表面沒有損傷。提供一種簡單，經(jīng)濟，快速獲得超潔凈的表面，去除大多數(shù)無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁*等）上的有機污染物。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時，紫外清洗非常理想。獲得超潔凈的表面，只需要在傳統(tǒng)清洗后，再用紫外臭氧清洗過程幾分鐘就可以啦。可用于去除石英、硅片、金、鎳、鋁、砷化鎵、氧化鋁等大多數(shù)無機基材上的有機污染物，提供了一種、精密的清洗方式，也是表面改性的一種非常重要的技術(shù)。
紫外臭氧清洗機的應(yīng)用范圍十分廣泛，在現(xiàn)代信息技術(shù)行業(yè)中使用臭氧清洗技術(shù)比較普遍，隨著我國工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展，還將逐步應(yīng)用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。
1、在LCD、OLED生產(chǎn)中，在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經(jīng)過臭氧清洗，可以大大的提高基體表面潤濕性，增強基體表面的粘合力；
2、印制電路板生產(chǎn)中，對銅底板，印刷底板進行臭氧清洗和改質(zhì)，在導(dǎo)線焊接前進行清洗，可以提高熔焊的接觸面積，大大增加連接強度。特別是高精度印制電路板，當(dāng)線距達到亞微米級時，利用紫外臭氧清洗機可輕易地去除在線距之間很小的微粒，可以大大提高印制電路板的質(zhì)量。
3、大規(guī)模集成電路的密度越來越高，晶格的微細(xì)化越來越密，要求表面的潔凈度越來越高，可以有效地實現(xiàn)表面的原子清潔度，而且對芯片表面不會造成損傷。
4、在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，硅晶片涂保護膜、鋁蒸發(fā)膜前進行清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發(fā)生。
5、在光盤的生產(chǎn)中，沉積各種膜前作清洗準(zhǔn)備，可以提高光盤的質(zhì)量。
6、磁頭固定面的粘合，磁頭涂敷，以及提高金屬絲的連接強度，紫外臭氧清洗機清洗后效果更好。
7、石英晶體振蕩器生產(chǎn)中，除去晶體檢測后涂層上的墨跡，晶體在銀蒸發(fā)沉積前，進行清洗可以提高鍍膜質(zhì)量和產(chǎn)品性能。
8、在IC卡表面插裝ROM前，經(jīng)過清洗可提高產(chǎn)品質(zhì)量。
9、彩色濾光片生產(chǎn)中，清洗后能*洗凈表面的有機污染物。
10、敷銅箔層壓板生產(chǎn)中，經(jīng)過紫外臭氧清洗機清洗后不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護氧化層，產(chǎn)品質(zhì)量顯著提高。
